“董事长，尼康方面要是请我们帮忙为DSP-100升级双工作台系统，我们是否答应？”

去年2月，尼康方面花钱请BSEC为NSR-S308F干式光刻机升级相匹配的双工作台系统。

在攻克193nm波长的世界性光学难题上，BSEC、GCA和ASML最后走的是134nm波长的浸润式技术，Nikon和Canon走的是157nm波长的干式技术。

按照当初同尼康公司签订的授权技术专利的许可合同，BSEC没有责任和义务专门为尼康公司的NSR-S308F干式光刻机，升级相匹配的磁悬浮式双工作台系统。

孙董事长没有同意！

“魏总，不要答应！”

“好的，董事长！”

1993年7月，在孙健的“指引”下，邓国辉院士挂帅，钟德伟教授和夏季常教授担任副组长的联合攻关组，研制成功为光刻机配套的世界首套磁悬浮式双工作台系统（包括硬件和软件），原理是二个平台交替工作，一个平台在做晶圆曝光时，另一个平台做量测、矫正等后续任务，然后二个平台交换位置，整个过程在一个小时内重复225次，能提高晶圆生产效率35%，这项世界首创的发明专利属于前世三大光刻机核心专利技术之一。

通过多次升级，如今一个小时内达到了285次。

孙健没有藏着掖着，BSEC当时对外公开承诺，等拿到公司发明专利后，向全球光刻机公司许可技术专利。

在18个月的漫长等待后，1995年2月，BSEC获得欧美、日本和韩国等国专利局授予的公司发明专利后，按照当初的承诺，分别同ASML、Nikon和Canon等签订许可合同，授权技术专利；专利使用费相当于每台光刻机售价的1%。

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