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第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世

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6月2日上午,孙健在办公室,从PN(鲲鹏网)首页上看到一则一百多字的新闻(转载GPN):尼康45nm干式光刻机横空出世!立马引起了他的眼球,尼康公司今日公开宣布,尼康公司同SELETE合作,在65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F的基础上,经过一年多的努力,研制成功45nm干式光刻机DSP-100;同时宣布,尼康公司将联合SELETE、尔必达、东芝、富士通公司,投资2350亿日元(相当于20亿美元),在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。

GCA控股的GPN(地理鲲鹏网)早就进入日本,但没有进入中国;PENG控股的PN没有进入美国和日本等西方国家和地区;GPN和PN在世界各地共有4000多名记者,为了节约成本,共享新闻资源等,2000年1月16日,双方签订了资源共享合作协议,无偿转载对方的新闻报道等。

美西方国家发生的大事,中国等东南亚国家发生的大事,在中国或美国的网民,第一时间就能从PN或GPN上看到。

半导体前沿技术公司研发协会(SELETE)是1996年3月,由富士通、日立、松下、三菱电机、NEC、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司,每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。

美国成立SEMATECH,致使日本失去半导体行业第一的位置后,成立SELETE是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试,组织采用分层组织结构,领头推动整个研发进展,领导三大前沿技术的研发:前端工艺,后端工艺,用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。

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